半導體行業的有毒廢氣主要來源於晶體外延、干法刻蝕及CVD等工序中，在這些工序中要使用到多種高純特殊氣體對晶片進行處理，如矽烷( SiH4) 、磷烷(PH3 ) 、四氟化碳( CF4 ) 、硼烷、三氯化硼等，部分特殊氣體具有毒害性、窒息性及腐蝕性。磷烷，毒性很強，此種廢氣必須經過處理之後才能排放。那麼，磷烷廢氣怎麼處理？k8凯发(中国)環保公司告訴您磷烷廢氣應急處理方法介紹如下：

磷烷廢氣處理方法

磷烷廢氣可用水、高錳酸鉀溶液、高錳酸鉀和苛性鹼混合溶液、氯化鐵溶液、次溴酸鈉溶液等來吸收或沖洗。也可用活性碳等吸附劑吸附，或用臭氧氧化成低毒物或者在嚴格控制下燃燒後排放。常見的磷烷廢氣處理方法如下：

吸收法

現有技術中常採用高錳酸鉀溶液處理含磷烷的廢氣，將高錳酸鉀溶液自上而下噴淋與含磷烷的廢氣在噴淋塔內接觸吸收，採用高錳酸鉀氧化法處理含砷廢氣。s先把高錳酸鉀溶液裝入二級過濾裝置中，把氣體通入高錳酸鉀溶液內進行反應產生的結晶通過排污口排出，防止產生的結晶物堵塞噴淋系統，且廢氣從高錳酸鉀溶液內經過使廢氣與溶液充分接觸反應，使淨化效果更好；其次通過二級過濾裝置的高錳酸鉀溶液吸收後，再通過三級過濾裝置噴淋鹼液再次吸收，z後通入臥式過濾罐內通過加熱棒加熱把把殘留的廢氣完全吸收在排放出去，使磷烷尾氣淨化效果更好。

吸附法

半導體行業的磷烷廢氣從機台端單獨收集，通過乾式吸附裝置進行吸附後達標排放。

燃燒法

電子工業中往往使用含磷烷氣體做摻雜氣體，由氣體生產工廠混合成磷烷濃度為5%的混合氣體，在充裝前需要對殘餘氣體進行處理置換，由於磷烷氣體屬於劇毒品，排放需小於0.3mg/m3，工業上通常對磷烷採用燃燒法進行廢氣處理。

 

以上是《磷烷廢氣怎麼處理？磷烷廢氣應急處理方法介紹》內容，諮詢半導體行業廢氣處理方案，即刻聯繫我們。

---

提示：本網部分已發佈的信息內容可能存在過時，請注意辨別。部分內容整理為互聯網/轉載官方發佈，相關信息僅為傳遞更多信息之目的，不代表本網觀點，不擁有所有權。如有侵權聯繫刪除。