有研半導體材料有限公司成立於2001年6月，高新技術企業，擁有整套具備自主知識產權的核心技術和符合國際標準的廠房設備。主要從事矽材料的研究、開發、生產與經營，提供相關技術開發、技術轉讓和技術諮詢服務。主要產品矽單晶及矽片，應用於集成電路、功率器件、太陽能等多個L域，遠銷美國、日本、韓國、台灣等多個地區，在國內外市場具有較高的知名度和影響力。

氮氧化物（主要為二氧化氮）為半導體生產工藝中主要廢氣，其不同於其他的酸性廢氣，在鹼性溶液中溶解度較弱，兩相轉化率較低。處理二氧化氮為主的廢氣主要通過氧化還原的方法進行吸收處理。相比於傳統的酸鹼吸收的方法，氧化還原的吸收方式反應速率低，但處理效率可以大大提升。

氮氧化物廢氣系統處理工藝路線：

氣體收集➡氧化還原塔➡耐腐蝕風機➡煙囪（達標排放）