氫化物廢氣怎麼處理？氫化物廢氣處理方法介紹
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氫化物(如AsH3、PH3、SiH4、GeH4)為半導體廠爐管、離子植入製程及光電廠MOCVD製程大量使用的氣體，而這些氣體在製程中沒有被完全利用，故會有毒性氣體自製程機器排出。氫化物廢氣怎麼處理下面為您介紹：
氫化物廢氣處理
- 濕式法
- 高溫氧化法
- 乾式吸附法
氫化物廢氣處理方法
濕式法
濕式加藥洗滌法處理後的廢液毒性依舊，而且廢液體積龐大，對工廠而言仍是一大負擔。
高溫氧化法
有不錯的效果，但氣體處理後產生大量的毒性微粒(如As2O3)容易披覆在管線及高溫腔中，造成機器失效，因此必須在廠內對機器定期維修保養。維修時可能造成高毒性微粒逸散，對廠區及維修人員造成危害，SEMI F5-1101已建議不使用此種處理方式。
乾式處理法
使用潔淨劑(cleaning agents)，利用化學吸附使AsH3、PH3、SiH4等氣體分子與潔淨劑作用，生成非揮發性化合物，使製程尾氣不再含有毒性氣體。
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