光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種光照後能改變抗蝕能力的高分子化合物。一般情況下，光刻膠是帶有芳香味的具有一定黏度及顏色的液體。在半導體製造行業，光刻膠以液態塗覆在矽片表面上，曝光後烘烤成固態。光刻膠的作用是將光刻板上的圖形轉移到矽片表面的氧化層中，在後續工序中，保護下面的材料。那麼，光刻膠廢氣怎麼淨化？光刻膠廢氣成分有哪些？k8凯发(中国)環保公司為您介紹如下：

光刻膠廢氣成分

光刻膠廢氣成分是VOCS有機廢氣，在光刻、顯影、刻蝕及擴散等工序，在這些工序中要用有機溶液(如異丙醇)對晶片表面進行清洗，其揮發產生的廢氣是有機廢氣的來源之一；同時，在光刻、刻蝕等過程中使用的光阻劑(光刻膠)中含有易揮發的有機溶劑，如醋酸丁酯等，在晶片處理過程中也要揮發到大氣中，是VOCs廢氣產生的又一來源。

光刻膠廢氣處理

目前國內半導體行業光刻膠有機廢氣處理，與其它有機廢氣收集後採用預處理+沸石轉輪吸附濃縮+直接燃燒TO廢氣處理解決方案。沸石轉輪吸附濃縮是利用多孔性固體吸附劑處理混合氣體，使其中所含的一種或多種組分吸附在固體表面，達到分離的目的，濃縮比達20﹕1，運行費用較低，設備處理風量大，佔地面積小，不產生二次污染，可持續脫附並處理污染物。該方法特別適用於大風量、低濃度、常溫的有機廢氣處理，淨化效率達到90％以上，可保證廢氣達標排放。

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