隨着數字時代的飛速發展，半導體晶片現已廣泛應用於各個l域，給人們的工作與生活帶來了極大的便利。但同時隨着半導體製造企業的快速發展，給環境帶來了一定的空氣污染，必須通過廢氣淨化設備處理後高空排放。那么半導體廢氣淨化設備是什麼？半導體尾氣處理的設備有哪些？如何識別半導體製造企業廢氣淨化設備，這就需要我們先搞清楚廢氣的分類，因為不同的廢氣所使用的廢氣淨化設備是不一樣的。通常半導體廢氣分為酸性排氣、鹼性排氣、VOCs排氣、一般排氣和有毒排氣等。根據半導體排氣種類，k8凯发(中国)環保公司為您介紹簡單半導體尾氣廢氣淨化設備如下：

等離子水洗Local Scrubber設備

該設備主要去除半導體Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圓工藝製程中使用或產生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體，如：CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。

本設備的直流電弧等離子體為非轉移型，兩電極區域不參與反應，只產生等離子體，產生的火焰溫度可達3000度以上。 等離子反應器的MTBF大於1年，反應室內腔的材質耐熱和耐腐，具有四個進氣口，裝置具備冷卻區、噴淋區及兩級填料除霧區，對PFC溫室氣體的去除效率>90%。本裝置的直流電弧等離子體為非轉移型，兩電極區域不參與反應，只產生等離子體，產生的火焰溫度可達3000度以上。 等離子反應器的MTBF大於1年，反應室內腔的材質耐熱和耐腐，具有四個進氣口，裝置具備冷卻區、噴淋區及兩級填料除霧區，對PFC溫室氣體的去除效率>90%。

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噴淋洗滌塔

對於含有酸性/鹼性物質的廢氣 ，半導體廠封閉車間大都採用大型臥式洗滌塔進行廢氣處理。廢氣噴淋塔是利用酸鹼中和原理，酸性（鹼性）廢氣與噴淋鹼液（酸液）中和反應，將氣態污染物轉化為鹽類，隨污水排入到污水處理系統中處理。經噴淋處理後的廢氣排放達到大氣中，一級噴淋塔處理效率可以達到90%以上。廢氣洗滌塔適用於電子工業、半導體製造業、PCB製造業、LCD製造業、鋼鐵金屬工業、電鍍及金屬表面處理工業、酸洗製程、染料、製藥、化學工業、除臭、儀表等行業廢氣的淨化處理。

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沸石轉輪吸附濃縮裝置

沸石轉輪吸附濃縮裝置主要用於有機廢氣的治理， 特別適合於大風量，低濃度場合。該吸附裝置以陶瓷纖維為基材，做成蜂窩狀的大圓盤輪狀系統，輪子表面塗覆疏水性沸石做吸附劑。沸石轉輪吸附濃縮裝置主要由廢氣預處理系統、分子篩轉輪濃 縮吸附系統、脫附系統、冷卻乾燥系統和自動控制系統等組成。

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TO直燃爐

對大風量、低濃度的VOCs廢氣，TO直燃爐一般會搭配沸石轉輪使用，廢氣先通過預處理工藝，去除其中的粉塵、顆粒物及雜質成分，保護沸石轉輪，沸石轉輪一般分三個區域，分別為吸附區、脫附區和冷卻區，面積佔比為10:1:1，含有VOC的廢氣經過收集管路進入到沸石轉輪，通過轉輪吸附區進行吸附，轉輪的吸附效率一般設計要求＞95%，經過轉輪吸附區吸附後的廢氣可以達標排放。轉輪在吸附的同時也進行局部的高溫脫附，一般脫附區進氣的設定溫度是200-220℃，對轉輪中吸附的VOC進行脫附和濃縮，脫附後的轉輪區域需要進行冷卻降溫後才能恢復正常的吸附狀態，脫附區的高溫廢氣是通過從轉輪冷卻區出來的廢氣，跟轉輪熱交換的溫度正常在120-130℃左右，經過換熱器換熱到200-220℃，進入到脫附區進行脫附和濃縮，脫附出來的廢氣經過脫附風機送入到預熱換熱器，將廢氣換熱到350-420℃後進入到燃燒爐里進行燃燒，從沸石轉輪吸附區出口的廢氣和燃燒爐換熱後的氣體會排放到統一的煙囪進行排放。

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以上簡單介紹了四種半導體廢氣淨化設備，希望對您有所幫助。諮詢或採購半導體廢氣處理設備請聯繫我們。

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