半導體行業廢氣處理，按照其廢氣處理工藝分為：酸性廢氣處理（SEX）、鹼性廢氣處理(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般排氣(GEX)等；其廢氣處理系統包括：酸性廢氣處理設備、鹼性廢氣處理設備、有機廢氣處理設備等；酸、鹼廢氣處理設備有：洗滌塔，又名噴淋塔、吸收塔；有機廢氣處理設備有：活性炭吸附裝置、直燃式熱氧化廢氣焚燒爐（TO）等。

k8凯发(中国)廢氣處理公司，對半導體行業廢氣處理系統的設計選型，嚴格按照國j或地方的大氣污染物治理達標排放標準，以及企業廢氣。

 

參半導體廠廢氣情況概述

隨着信息化時代的到來，半導體行業也在迅速發展，半導體廠給社會帶來的經濟效益及就業率有目共睹的，但隨之而來的還有對大氣的污染。由於半導體行業對操作室清潔度要求極高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。

主要成分：半導體行業廢氣主要為有機廢氣和酸鹼廢氣兩類。有機類有：非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等；酸鹼類有：氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。

主要來源：在半導體行業中造成環境污染的有害氣體，主要來源於晶片或者是線路板生產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中。

主要危害：半導體行業主要是元器件組裝焊接過程中對大氣的污染和電路板等器件清洗等表面處理過程中因使用一些化學藥劑（如硫酸、鹽酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有機鹵化物）揮發造成對大氣環境的污染，以及整機裝配過程中產生的機械噪聲和少量粉塵也會造成環境污染，這些污染氣體會造成人群慢性或急性中毒。

 

半導體廠廢氣處理工藝

（一）酸鹼性廢氣

工藝流程： 酸/鹼性廢氣→酸/鹼式洗滌塔→離心風機→煙囪（達標排放）

酸鹼廢氣經過收集管道集中收集後按照各自的系統進入相應的化學洗滌塔進行噴淋處理，k8凯发(中国)自主研發設計的化學洗滌塔通過內部的噴淋系統、循環水系統、填料過濾系統、除霧系統、自動加藥系統、自動補排水等系統對進入化學洗滌塔的廢氣進行化學吸收、除霧，保z處理後的廢氣達標排放。

 

設備介紹

化學洗滌塔可有效去除廢氣中含有的酸/鹼性氣體，廢氣處理設備以FRP為主要材料生產。填料採用PP材質的麥勒環。根據氣體吸收過程中氣液兩相在表面上進行傳質反應以及傳遞速率和比表面積成正比的原理，因此採用填料來增大兩相接觸的比表面積，使兩相充分接觸，從而達到吸收和淨化廢氣的目的。淨化後的氣體水分含量較大，使氣體通過除霧層，除霧層填料可有效吸附氣體中的水分，z後淨化後的氣體由出氣口排出。

洗滌塔的工作原理：洗滌塔的結構型式分為立式和臥式。

立式洗滌塔的工作原理為氣液兩相逆流接觸；含酸鹼污染物的廢氣由塔下部進口進入塔內向上運動，通過單層或多層填料，廢（尾）氣與液相充分接觸後吸收或中和，乾淨的氣體經過上層的除霧層排出，從而達到吸收和淨化效果。

臥式結構的工作原理為氣液兩相交叉流接觸，廢（尾）氣通過填料層段時與液相充分接觸後吸收或中和，從而達到吸收或淨化的效果。

設備本身包含有洗滌塔本體、填料層、除霧層、循環水管路，及循環水箱等。

（二）有機類廢氣VOCs

1、工藝流程

工作原理：待處理的有機混合廢氣經引風機作用，先經過預處理過濾裝置去除廢氣中的粉塵及雜質部分，否則直接吸附會堵塞沸石的微縮孔，從而影響吸附效果甚z失效，經過初步過濾後“相對純淨的有機廢氣”進入沸石轉輪吸附裝置進行吸附淨化處理，有機物質被轉輪沸石特有的作用力截留在其內部，潔淨氣體排出，經過一段時間吸附後，沸石轉輪達到飽和狀態，轉輪按照一定的速度（每小時1-3轉）自動轉動進入冷卻和高溫脫附區域。

沸石轉輪脫附出來的高濃度廢氣直接進入TO直燃式焚燒爐進行焚燒淨化處理，廢氣焚燒後的爐膛燃燒室高溫氣體與內部熱交換器進行熱交換預熱進來的脫附廢氣，使脫附廢氣換熱後溫度控制在300-350℃左右進入燃燒室燃燒，燃燒後經內部換熱器降溫後進入尾部二級煙氣餘熱利用裝置，d一級餘熱利用裝置用於脫附，升溫後的潔淨氣體進入轉輪脫附區用於脫附，沸石中的有機物受到熱空氣加熱後從沸石中揮發出來，此時脫附出來的廢氣屬於濃度高、風量小、溫度高的有機廢氣再進入二級煙氣餘熱利用裝置用於將廢氣溫度二次提高，進入TO焚燒爐焚燒處理，再次降低TO焚燒爐焚燒的運行成本。做到真正的節能、環保。同時整套裝置安q、可靠、無任何二次污染。

客戶提供

為了確保方案和報價的優z性，請您提供半導體廠廢氣數據，包括：廢氣成分、廢氣濃度、廢氣風量、所需達到處理效果（如XXX國j標準）、佔地面積等。

 

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