半導體含砷廢氣處理方法（半導體含砷廢氣如何治理）
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半導體行業在晶片製程工藝中，因其不間斷使用有機溶劑和酸溶液直接產生了大量的有毒有害的廢氣，且需經過廢氣處理達標後才能高空排放。本文將介紹半導體含砷廢氣處理方法。
半導體含砷廢氣來源
含砷廢氣來源半導體摻雜製程工序，廢氣包括砷烷、磷烷和硼烷。
半導體含砷廢氣處理方法
處理含砷廢氣常用設備為砷磷烷吸附塔。半導體行業的含砷廢氣從機台端單獨收集，形成獨立的系統，砷烷磷烷的處理系統主要分為兩個部分，d一階段為Local Scrubber，即本地的乾式吸附裝置，採用的原理也是化學吸附，目前隨着國j及各地區環保排放標準日驅嚴格，在含砷系統的Local Scrubber的基礎上匯集到屋面時會在Central端再次進行乾式吸附，使用的設備稱為砷磷烷吸附塔，一般砷磷烷吸附塔也會配置一用一備模式，吸附後通過末端風機負壓達標排放。
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砷磷烷吸附塔利用化學反應、複分解反應等基本原理，與各種廢氣產生化學反應，生成穩定的無毒無害的化合物或者複合物，可直接用於修路、垃圾填埋等，不會產生二次污染。
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