半導體行業中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分，在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。其廢氣的主體是VOCs，同時廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險污染物，分離和處理難度比較大。下面k8凯发(中国)環保公司為您介紹半導體廢氣處理方法：

半導體酸廢氣處理方法

半導體酸廢氣處理通常採用鹼液體噴淋法，又稱化學洗滌法。因液體自身具有的溶解特性，可以更好地捕捉沉降，溶解去除污染物，而達到大氣排放標準，故噴淋法是半導體行業酸鹼廢氣治理普遍採用的主要處理方法。

新材料行業半導體廢氣處理的方法

新材料行業與傳統材料相比，新材料產業具有技術高度密集，研究與開發投入高，產品的附加值高，生產與市場的國際性強，以及應用範圍廣，發展前景好等特點，其研發水平及產業化規模已成為衡量一個國家經濟，社會發展，科技進步和國防實力的重要標誌，世界各國特別是發達國家都十分重視新材料產業的發展。

作為新材料產業的代表之一，半導體工藝對操作室清潔度要求極高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。這些廢氣排放主要可以分為四類：酸性氣體、鹼性氣體、有機廢氣和有毒氣體。

RTO蓄熱式焚燒爐設備，簡稱“RTO設備”，是採用高溫破壞焚燒的廢氣治理技術。採用的升溫能源一般是電和天然氣，雖然採用高溫700℃的溫度進行廢氣處理，但其實消耗的能源並不多，這是因為設備能夠將熱能回收利用，大大降低能量消耗的同時提高了廢氣分子的燃燒反應速率。設備的主體由燃燒室、陶瓷填料床和轉換閥等構成。設備的淨化效率也維持穩定在99%以上。

半導體行業廢氣處理方法以及對比

半導體行業有機廢氣處理方法，通常先用沸石轉輪對VOCs進行吸附濃縮之後，再用直接燃燒法進行銷毀，廢氣淨化率達到97%以上。

直接燃燒又稱為直接火焰燃燒，它是把VOCs可燃組分直接燒掉，因此該方法適用於淨化可燃有害組分濃度較高的廢氣，或者淨化有害組分燃燒時熱值較高的廢氣；多種可燃氣體或多種溶劑蒸氣混合在廢氣中，只要濃度值適宜，也可以直接燃燒。如果可燃組分的濃度高於燃燒上限，可以混入空氣後燃燒；如果可燃組分的濃度低於燃燒下限，則可以加入一定數量的輔助燃料如天然氣等，維持燃燒。

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