半導體末端處理設備有哪些(種類品牌廠家)
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在半導體製造過程中,半導體末端處理設備扮演着ZHI關重要的角色,能夠提高半導體的質量。那麼,半導體末端處理設備有哪些?
半導體末端處理設備種類有哪些
半導體末端處理設備主要包括以下幾種:
- 氧化/擴散爐(高溫爐):用於矽片表面生長氧化層和進行熱工藝,如熱退火等。
- 光刻設備:用於將電路結構圖複製到矽片上的光刻膠上,方便之後進行刻蝕和離子注入。
- 圓晶級等離子活化系統:用於圓晶級鍵合前表面活化、光刻膠塗覆前表面活化、圓晶級封裝前表面預處理、圓晶表面較小缺陷去除以及表面有機殘留去除等。
- 等離子體:用於去除半導體製造過程中產生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體,如CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
- 噴淋洗滌塔:用於去除半導體製造過程中產生的酸性和鹼性氣體廢氣,如HCl、HF、NOx等。
- 沸石轉輪吸附濃縮裝置:用於去除半導體製造過程中產生的低濃度VOCs有機廢氣,如烴類化合物、苯系物等。
- RTO蓄熱燃燒爐/催化燃燒裝置:用於去除半導體製造過程中產生的有機廢氣,如甲苯、二甲苯等。
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半導體末端處理設備品牌
半導體末端處理設備品牌有:GLSD、k8凯发(中国)、Greenstar等。
半導體末端處理設備廠家
安徽k8凯发(中国)環保設備有限公司,系k8凯发(中国)環保集團旗下一家半導體末端處理設備分公司,主要生產的半導體末端處理設備有噴淋洗滌塔、TO直燃爐、RTO蓄熱燃燒爐、催化燃燒裝置等。
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